18.2兆歐實驗室超純水設備|專業超純水設備廠家直銷王先生18938163036 
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實驗中很多清洗都需要用到超純水設備制取的超純水,那么硅片清洗為什么要用到超純水?
硅片是半導體行業重要的基體材料。半導體器件生產中硅片須經過嚴格清洗,清洗的目的在于清除表面污
染雜質,包括有機物和無機物,否則微量污染也會導致器件失效。那么硅片清洗為什么要用到超純水呢?
超純水起初是美國科技界為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子
化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水,如今超純水已在芯片、精密儀器、電鍍涂裝、
汽車等領域廣泛應用。
硅片清洗對水質要求非常高,電阻率達18兆以上,而超純水能符合標準。超純水是一般工藝很難達到的程
度,水的電阻率大于18MΩ*cm,接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。超純水設備采用預處理、反滲透技術
、超純化處理以及后級處理等方法,將水中的導電介質幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及
有機物均去除至很低程度的水處理設備。
以上就是硅片清洗為什么要用到超純水的介紹。超純水設備應用范圍在近幾年越來越廣泛,并且具有操
作簡單、水質穩定、運行成本低等特點,受到各行業的一致好評。