低溫等離子設(shè)備(2) 低溫等離子體處理系統(tǒng)必須要有一定的放電處理功率。通常需要在2～5瓦時(shí)/米3。即1000米3/時(shí)的風(fēng)量需要處理的電功率為2KW～5KW。如果號(hào)稱1000米3/時(shí)的風(fēng)量只需要幾十或幾百瓦的電功率，則最多也就是靜電(除塵)處理或局部處理而已。要想分解VOCs沒(méi)有一定的能量是不可能的。 等離子體技術(shù)目前采用的有四類(lèi)技術(shù)，介質(zhì)阻擋放電（雙介質(zhì)、單介質(zhì)）、尖端放電（金屬、纖維）、板式放電、微波放電，實(shí)際應(yīng)用也有采用組合模式。介質(zhì)阻擋放電 將絕緣介質(zhì)插入放電空間的一種氣體放電。介質(zhì)可以覆蓋在電極上，也可以懸掛在放電空間里，當(dāng)在放電電極間施加一定頻率(50 MHz 至幾K赫茲) 的-Kv的交流電壓時(shí)，電極間的氣體就會(huì)被擊穿產(chǎn)生碳阻擋氣體放電。 在大氣壓或高于大氣壓條件下，間隙內(nèi)的氣體放電由許多在時(shí)間上和空間上隨機(jī)分布的微放電構(gòu)成，這些微放電的持續(xù)時(shí)間很短，一般為納秒量級(jí)[20] 。