公司主要經(jīng)營產(chǎn)品： 一、真空鍍膜材料 1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％） 高純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、銻靶Sb、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶 C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鎳靶Ni、銀靶Ag、S.S不銹鋼靶材等…… 多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶等…… 陶瓷濺射靶材：單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶（ZGO）、氧化鋅硼靶（ZBO）、砷化鎵靶(GaAs)，磷化鎵靶(GaP)，鉭酸鋰靶(LiTa)，鈮酸鋰靶(LiN)、二硼化鈦靶（TiB2 ）等… 2．高純光學(xué)鍍膜材料（99.9％——99.999％） 氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等… 氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等… 硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等… 天源公司自主研發(fā)的真空濺射靶材、光學(xué)鍍膜材料廣泛應(yīng)用于裝飾鍍膜、工具鍍膜、光學(xué)鍍膜及鍍膜玻璃工業(yè)與平板顯視行業(yè)。其靶材的制備都是根據(jù)其材料特性來加工的：分熱壓燒結(jié)工藝法和真空熔鑄工藝法，產(chǎn)品均具有純度高，微觀組織優(yōu)異及利用率高等特點，靶型有：平面矩形，管形，圓盤形，環(huán)形，片狀，粉狀等，規(guī)格和成分還可以根據(jù)用戶的具體要求來定做。