正立金相顯微鏡
系統金相顯微鏡(反射專用)
BX51M
●采用12V100W鹵素燈泡,為顯微鏡提供最強的反射光,使得到明亮的觀察圖像
· 主要特性
· 規格
1、世界領先的圖象質量與進一步改進的UIS光學系統的完美組合
·萬能物鏡適用于從明視野法到熒光法的所有顯微鏡觀察法
BX2M萬能物鏡與所有觀察法相兼容,包括明視野法、暗視野法、諾曼爾斯其微分干涉襯比法、偏振光法和熒光法,并在每一觀察法中提供最高級的圖像質量。
·諾曼爾斯基微分干涉襯比法系統提供最大限度可視度
用諾曼爾斯基微分干涉襯比法觀察,現已被認為檢驗材料、金屬和半導體結構不可缺少的手段。為了確保適合于各種樣品具體狀態的最佳分辯率和對比度,奧林巴斯提供三種不同類型的棱鏡:即用于通用檢驗的U-DICR;用于對最精細結構的高分辯率檢驗的U-DICRJ;用于高對比度檢驗的U-DICRHC。每一種棱鏡可單獨使用,且易于更換,易于使用。
·超高放大倍數觀察
BX2M-RLA2明/暗視察法用反射光照明裝置備有高功能孔徑光闌,它可以將孔徑連續縮小到超高倍率觀察所需要的針孔大小。這種特性提供焦深很深的高對比度觀察象,又專門備有150倍和250倍的超高率復消色差物鏡。而且物鏡具有特長的工作距離,有助于避免觀察中物鏡頂端與樣品碰撞。
·暗視野法的觀察象亮度增到已往的兩倍
奧林巴斯改進了聚光功能,使暗視野法的觀察象亮度比已往系統幾乎大兩倍。因此,微小的缺陷、極小細節和細微雜質均能清晰地檢測到。
·適用于高級成象的平場復消色差物鏡
使用色差完全被消除的高分辯率物鏡,就能保證得到某些結構對比度、清晰度、分辯率均高的優質觀察象,例如靠近光學分辯極限的半導體幾何圖形。
2、鏡體形狀設計的改進促使人機工程學進一步改善
·更為緊湊的Y形鏡體設計使操作更舒適
新顯微鏡的鏡體長度減少,從而為奧林巴斯著名的Y形造形設計提供了更為寬綽的工作空間。由于照明燈殼小型化,鏡體變得更為緊湊,減少顯微鏡的占用空間,便于在鏡體附近的自由桌面上放置樣品和輔助裝置,不會妨礙操作員的工作。
·操作部位布局合理
大量減輕長時間觀察中的疲勞
作為很少感到疲勞而頗受廣大用戶好評的Y形鏡體,經過新的精心設計其操作舒適性進一步提高。操作員能將前臂放在桌面上隨意完成所有調焦和載物臺操作,即使復雜的觀察也不必頻繁移動手臂和手腕,手部運動量很小。
·調焦操作輕而易舉
新微調旋鈕易于換裝到左右任何一邊
新調焦微調旋鈕可以拆卸下來換裝到顯微鏡的左右任何一邊,以適合操作員喜好。控制旋鈕的覆蓋層因微動靈敏度高而易于用手指肚兒輕摸操作,即使在高放大倍率下進行微調也非常精確。
·可傾斜鏡筒系列能使操作員維持舒適姿勢
U-TBI和U-ETBI可傾斜鏡筒是供雙目觀察的,而U-ETTR鏡筒是供討論或顯微照相需要的。本系列鏡筒能讓每個操作員選擇最適合的眼點位置和人機工程學姿勢,從而大量減輕長時間觀察中的疲勞。
BX61
BX51