※產品用途:
CNT生產的CVD(真空化學氣相沉積爐)是一種用于在基片上生成高質量TiC、SiC、SiO2、Si3N4專用設備。淀積溫度能夠較高  (100~1700℃可調  )  ,它已成為機械制造工業、冶金工業、光學工業、半導體工業等領域微電子和光電子領域科研和生產不可缺少的設備。
※產品特點:
CNT公司CVD設備主要由全真空專用不銹鋼腔體,分子泵或擴散泵高真空系統,電源,生長機體載體及溫控系統,獨立排氣和生長壓力調節系統,冷卻循環水輔助設備等組成。整機結構緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設備控制系統采用邏輯按鈕手動控制與工控機自控控制可選。實現真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導體及金屬膜等。