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電鍍、PCB板用超純水工程的工藝流程:

1.新工藝一:
原水(設(shè)有壓力保護(hù))→增壓泵(一用一備)→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→軟化器(根據(jù)地域不同選用)→精密過(guò)濾器→中間水箱→RO前水泵→精密過(guò)濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統(tǒng)→RO水箱→RO水增壓泵→混床→終端精密過(guò)濾→設(shè)備用水（水質(zhì)可以達(dá)到16MΩ.cm以上即0.06
μs/ ㎝以下,25 ℃）
2.新工藝二:
原水(設(shè)有壓力保護(hù))→增壓泵(一用一備)→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→軟化器(根據(jù)地域不同選用)→精密過(guò)濾器→中間水箱→RO前水泵→精密過(guò)濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統(tǒng)→RO水箱→RO水增壓泵→普通混床→拋光混床→終端精密過(guò)濾→設(shè)備用水（水質(zhì)可以達(dá)到18MΩ.cm以上即0.056μs/ ㎝以下,25 ℃）
3.新工藝三:
原水(設(shè)有壓力保護(hù))→增壓泵(一用一備)→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→軟化器(根據(jù)地域不同選用)→精密過(guò)濾器→中間水箱→RO前水泵→精密過(guò)濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統(tǒng)→RO水箱→RO水增壓泵→EDI電去離子主機(jī)→終端精密過(guò)濾→UV紫外線殺菌→設(shè)備用水（水質(zhì)可以達(dá)到16MΩ.cm以上即0.062μs/ ㎝以下,25 ℃）
4.新工藝四:
原水(設(shè)有壓力保護(hù))→增壓泵(一用一備)→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→軟化器(根據(jù)地域不同選用)→精密過(guò)濾器→中間水箱→RO前水泵→精密過(guò)濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統(tǒng)→RO水箱→RO水增壓泵→EDI電去離子主機(jī)→去離子水箱→去離子水泵→拋光混床→終端精密過(guò)濾→UV紫外線殺菌→設(shè)備用水（水質(zhì)可以達(dá)到18MΩ.cm以上即0.055μs/ ㎝以下,25 ℃）
5.新工藝五:
原水(設(shè)有壓力保護(hù))→增壓泵(一用一備)→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→軟化器(根據(jù)地域不同選用)→精密過(guò)濾器→中間水箱→一級(jí)RO高壓泵→一級(jí)RO反滲透系統(tǒng)→RO水箱→二級(jí)RO高壓泵→二級(jí)RO水箱→增壓泵→EDI(CEDI)電去離子水主機(jī)→去離子水箱→去離子水泵→拋光混床→終端精密過(guò)濾→UV紫外線殺菌→設(shè)備用水（水質(zhì)可以達(dá)到18MΩ.cm以上即0.055μs/ ㎝以下,25 ℃)
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