高壓光催化反應釜

      用于光化學高壓反應、二氧化碳CO2還原、二氧化碳CO2還原制甲醇
二氧化碳CO2還原制甲烷CH4、氮氧化物NOx的還原降解、甲醛的高壓光催化降
解等領域。光催化反應，Fischer-Tropsch反應，加氫反應，聚合反應，均相反應及二氧化碳超臨界反應等。該產品已獲得國家專利，專利號：201003127547.0

　　可選配光照單元：配合PLS-SXE300C/300CUV，或XPS300或XPS300UV(具有TSCS功能，可長時間保證光輸出穩定性)使用。

　　可選配附件：紫外光直接輸出單元  光纖輸出單元  外置透鏡匯聚單元

　　◆工作溫度:純鈦/哈氏合金材質最高350℃，不銹鋼材質最高250℃，溫度顯示精度:±1℃。標配含有數控攪拌裝置一套，純鈦/316L/哈氏合金材質反應釜體一套(三選一)，油浴加熱/電熱絲加熱一套(二選一)針閥二只，球閥二只和壓力表一只(數字壓力表可選裝)，1.5米不銹鋼連接管，在線取樣管一套，TAIKANG專用扳手一套.

　　◆攪拌速度，溫度均為數字顯示0-1500RPM，轉速精度±5RPM，電源:220V，50HZ，攪拌功率:25W-100W隨型號，加熱功率:300W-1000W隨型號.保溫層:采用硅酸鋁棉真空定型環保保溫體，絕緣層:采用無堿玻璃纖維，絕緣系數:相對濕度≤35%時≥500兆.工作時間:單次連續工作96小時.

　　◆最高壓力10Mpa，壓力最小讀數1pa.

　　◆閥門管件為歐洲標準，接口均為標準配置。球閥可與充惰性氣體瓶連接，進行惰性保護實驗反應，實現反應物不與空氣直接接觸。