一、碳脫氧型高純氮氣純化設備工藝原理:在碳載型催化劑作用下，氮氣中的殘氧和催化劑本身所提供的碳發(fā)生反應，而除去氮氣中的氧。反應式為：C+O2=CO2適用范圍:適用于高純度氮氣用戶，特別適用于磁性材料、電子行業(yè)等對氧、氫有嚴格要求的工藝。氮氣純度：99.9995％(O2≤5PPm、CO2≤5PPm)??處理氣量：10～500Nm3/h原料氮氣純度：≥99.9％??露水點≤-60℃～70℃產(chǎn)品氮氣出口壓力：0.1～0.6Mpa主要特點:1、穩(wěn)定性好，氧含量在任何時候都能控制在5PPm以下；2、純度高，氮氣純度在99.9995％時能保持長期穩(wěn)定。3、可靠性好，按照IS09002國際標準進行制造。二、加氫脫氧型高純氮氣純化設備工藝原理:加氫脫氧裝置以普氮為原料。經(jīng)加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥、再經(jīng)過濾除去氨氣中的雜質、水氣和塵埃，獲得高純氮氣。除氧原理：2H2+O2→2H2O+O↑主要特點:工藝先進——————采用國內領先的高效脫氧催化劑。活性好。無需加熱，活化再生。自動控制——————西門子PLC控制，工作再生自動切換可選的質量流量控制器，自動加氫，比值控制。工作可靠——————采用德國寶得氣動閥，日本理化RKC溫控儀。設計合理——————全封閉的設計，結構緊湊、外型美觀、占地面積少。技術指標:處理氣量：10～500Nm3/h??原料氮氣純度：≥99.5％．產(chǎn)品氨氣純度：99.9995％??O2≤5ppm??H2：微量露水點≤-60℃～70℃??產(chǎn)品氮氣出口壓力：0.1～0.6Mpa三、超高純氣體純化設備▲采用催化和化學吸附工藝聯(lián)用，進行氮氣純化，也可用于氬氣純化。▲采用專利催化劑，純化深度高，抗原料氣波動能力強（200%）。非消耗型填饣料，使用壽命長。▲進口潔凈管道、閥門，Swagelok全自動軌道焊，專利內加熱拋光反應器，全面保證產(chǎn)品質量。▲集約化箱體包裝，高普超純氣體技術，超純氫氣純化設備，蘇州市高普超純氣體技術有限公司，全自動運行。應用領域：▲高純單晶硅、晶片外延、大規(guī)模集成電路、光電生產(chǎn)等電子行業(yè)氣體終端純化。▲氣體行業(yè)超純氣體生產(chǎn)、分析零點氣制備。▲鋼鐵、石化行業(yè)氮氣純化。四、QC系列氫氣純化裝置QC系列氫氣純化裝置是一種以氫氣為原料，通過催化除氧冷卻除水，吸附干燥的氫氣純化設備。它主要由預加熱器、除氧器、冷卻器、冷干機、干燥器、儀表控制系統(tǒng)等部件組成。工作原理本裝置先將原料氫氣加熱后，使其進入裝有鈀催化劑的除氧器。在除氧器中氫氣中的微量氧與氫氣在催化劑作用下，高普超純氣體技術，超純氫氣純化設備，蘇州市高普超純氣體技術有限公司，發(fā)生氫氧反應生成水汽O2+2H2→2H辶2O，再經(jīng)冷凝除水達到除氧之目的。經(jīng)除氧、除水后的氫氣再經(jīng)裝有分子篩的干燥器進行深度吸附干燥處理。從而獲得含水量、含氧量極低的高純氫氣。主要技術性能處理氣量：0.5～2000Nm3/h原料氫氣氧含量：≤2%產(chǎn)品氫氣氧含量：≤1ppm產(chǎn)品氫氣露水點：≤－60～－70℃產(chǎn)品氮氣壓力：0.1～1.0Mpa干燥器切換方式：自動或手動結構形式：帶面板的框架結構或箱式主要特點工藝流程簡單、除氧深度深、露水點低電氣裝置按隔爆要求設計.采用蒸汽加熱，冰水冷卻，加熱冷卻自動由調閥控制流量。運行成本低，設備投資少操作方便、維護簡便可靠性高主要客戶：德山化工1200Nm3/h東岳化工600Nm3/h亞東石化300Nm3/h天成氯堿300Nm3/h五、氬氣純化裝置工作原理：采用非蒸散型鋯鋁合金16吸氣劑為凈化劑，該吸氣劑主要吸氣相為Zr5AL4、Zr5AL3、Zr3AL2、Zr2AL等多種金屬間化合物，活性高，擴散活化能低，當表面吸附著氣體時，在一定溫度下容易向體內擴散，具有吸氣速率高、吸氣容量大的特點。激活后在最佳吸氣溫度范圍內能有效的吸收O2、N2、CO2、CO、H2、CH4和水汽等，鋯鋁合金不吸收He、Ar、Ne等惰性氣體。所以使用該吸氣劑來純化精制Ar、Ne、He等惰性氣體。典型用途：本產(chǎn)品凈化器采用特殊結構，具有接觸面積大，阻力小，凈化效率高，熱功損耗小等優(yōu)點。本裝置可與區(qū)熔硅單晶爐配套使用可用于激光器、濺射、半導體生產(chǎn)，氣相色譜儀、特殊燈炮、稀有金屬加工等需要用高純氬氣的生產(chǎn)技術領域。.高普超純氣體技術///超純氫氣純化設備