多弧離子鍍膜設(shè)備是一種高效、無(wú)害、無(wú)污染的離子鍍膜設(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。

真空電弧離子的原理是基于冷陰極自持弧光放電結(jié)合脈沖技術(shù)及磁控濺射技術(shù)，使沉積粒子細(xì)化，膜層的各項(xiàng)性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且還能在非金屬制品表上進(jìn)行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，并能在極短時(shí)間內(nèi)完成全部加工工藝過(guò)程，是一種多功能高效鍍膜設(shè)備。廣泛應(yīng)用于工具、模具的超硬涂層，陶瓷、高爾夫、制表，酒店用品、衛(wèi)生潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品的裝飾涂層等領(lǐng)域。

本公司可根據(jù)用戶(hù)要求設(shè)計(jì)各種規(guī)格型號(hào)的真空鍍膜機(jī)。真空機(jī)組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶(hù)要求進(jìn)行設(shè)計(jì)配置。