主要用途是生產各種金屬膜電阻及氧化膜電阻的專用設備，可以完成高、中、低不同阻值的鍍膜工藝。
主要組成設備由真空室、真空機組、直流濺射源、射頻濺射源、分流式滾筒、充氣裝置、真空測量及其它輔助裝置等組成。
主要特點★生產能力大，根據型號的不同，每爐可鍍制裝載量達分別為10～11Kg、20～25Kg、30～40Kg左右的瓷體。★磁控濺射源工作特性穩定可靠，沉積速率高，陰極體采用可變磁場，大大提高了靶材的利用率，在40%以上。★根據不同電阻值和工藝要求配置不同濺射源，工藝適應性強。如配置射頻濺射源可鍍制介質膜，配備離化源可鍍制氧化膜。★采用特殊分流式滾筒，瓷體鍍制膜層均勻，阻值集中。★如配用PLC可編程控制，設備自動化水平提高，性能更加可靠，操作更為簡便。★調節沉積室的氣氛可控沉積膜的阻值和TCR（溫度系數）；鍍制后電阻在合適的“后調整”熱處理后TCR可接近于零。

上海沃家真空設備科技有限公司是國內領先的真空鍍膜工程集成供應商，緊緊圍繞客戶需求持續創新，為客戶創造最大價值。我們對全球伙伴開放合作，在新能源新材料、建筑/汽車、精密制造、重工/軍工等領域構建技術與服務優勢。我們致力于為企業、科研院所、薄膜涂層加工中心等提供有競爭力的綜合解決方案和服務。
本公司產品主要有：連續式磁控濺射鍍膜生產線、平面弧工模具硬質涂層設備、多功能中頻磁控濺射多弧復合離子鍍膜機、中頻磁控濺射鍍膜機、多弧離子鍍膜機、光學鍍膜機等系列真空鍍膜設備。產品廣泛用于太陽能、半導體、Low-E玻璃、光電、平板顯示、工模具、鐘表五金、3C產品、塑料、陶瓷等。本公司擁有完善的研發體系、生產制造體系及客戶服務體系，并聘請國內外多位知名專家。目前，產品遍布全國各地及海外，工藝應用于數百家客戶。
公司是全體員工價值實現和價值提升的平臺，致力于為客戶提供最優質最環保的表面處理解決方案，進一步整合公司內外資源，加大研發投入，不斷推出新技術、新產品，以滿足國內外市場需求，創造最佳的社會、經濟和環境效益。

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