真空鍍鋁膜裝在真空蒸鍍機中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達到１．３×１０－２～１．３×１０－３Ｐａ，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在１２００℃～１４００℃的溫度下溶化并蒸發成氣態鋁。氣態鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經冷卻還原即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在２５～５００ｎｍ，鍍鋁薄膜的寬度為８００ｍｍ～２０００ｍｍ。