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[供應]PVD鍍鈦膜層設備
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- 更新日期：2019-06-17 17:37:04
- 有效期至：2029-06-14
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PVD鍍鈦膜層設備
詳細信息
一、產品概述
1、功能：適用于各種金屬與非金屬表面鍍制金屬膜層（金、銀、銅、鋁、鉻、鋯、鈦等）、合金膜層（鈦鋁、鎳鉻、鉻鋁等）、化合物膜層（TiN、TiC、TiNC、CrN、TiAlN等）、多層復合膜等。因其無污染，潔凈環(huán)保，廣泛應用于餐具、五金產品、工藝品、衛(wèi)浴產品、板材、貨架等各種裝飾、功能涂層等領域。
2、產品特點：電弧離子鍍膜設備是采用冷陰極自持弧光放電，瞬間使鍍膜材料受熱蒸發(fā)，靶材離子及原子等高速運動到基材表面沉積膜層的鍍膜原理，是具有沉積速率快，離化率高等特點的鍍膜設備，膜層光亮致密，我公司自主開發(fā)全自動控制系統(tǒng)可實現一鍵化操作；適合高端產品涂層鍍膜的穩(wěn)定連續(xù)生產。
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