半導體組件，用于在化學機械拋光  (CMP)  設計的  Tecatron CMP  和

Tecapeek CMP  產品線，這些零件對力學性能和耐化學性的高性能塑料很高的要求。各種拋光用劑在  CMP  過程中，這種新的聚苯硫醚塑料Tecatron CMP  顯示更高的耐磨損和磨損抗性比以前的產品。有關特定材料的抗化學藥品和溶劑，這些摩擦學的好處增加塑料元件的壽命，在制造的過程減少了停機時間片成本。 

      極端的機械載荷可以通過特殊的拋光使用發生。Tecapeek CMP的理想材料是在這些條件下。這種新的  Ensinger PEEK產品特點是韌性和尺寸穩定性的不唯一的而且也很好的耐磨損和磨損抗性。配合高耐化學性，此優異的力學和摩擦學性能提供特別長的使用壽命。

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