工藝特點:
RC－M92半光亮鎳工藝是專門為防腐蝕性能要求高的電鍍件而設計，是雙層鎳或多層鎳系統電鍍中的半光亮鎳底層。
鍍層含硫量低于0.003%，半光亮鎳層與光亮鎳層電位差達120-145mv，耐蝕性極好
鍍層柔軟性好，覆蓋能力強，填平效果極佳
光亮劑濃度高，消耗量小
不含香豆素，分解產物少，鍍液穩定，容易維護，降低了廢水處理和活性碳處理的成本。


鍍液配制方法
在預備槽中注入三分之二的純水，加熱至60-70℃ 加入所需的硫酸鎳及氯化鎳，攪拌使其完全溶解.在另一個容器中，將所需的硼酸用水加熱溶解后，倒入上述溶液中.
加入2毫升/升30%的雙氧水(稀釋后再加入)，并攪拌1小時，再加溫至65-70℃，攪拌2小時，以除去多余的雙氧水.
在55-60℃時，加入2-3克/升的活性碳，攪拌1小時.保溫靜置4-8小時后，再過濾鍍液，并加入純水到所需的刻度，用稀硫酸或4%的氫氧化鈉(化學純)溶液，調整PH值至4.0左右.
用波浪狀的假陰極，以低電流密度(0.2-0.5安培/平方分米)連續電解12小時以上，或直至低電位顏色由暗黑色變成淺灰色.
最后加入計算量的各種添加劑，便可以開始電鍍.



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