硬鉻電鍍工藝特點:
陰極電流電流效率高,可達22-26%
可使用電流密度高達60安培/平方分米以上,沉積速度因此極大提高
與其它的混合催化劑鍍鉻工藝不同,RC-25不含氟化物,不會浸蝕工件的低電流區
鍍層的顯微硬度達1000-1100KHN100鍍層的微裂紋數可達1000條/英寸,防腐蝕能力因而提高
鍍層平滑,細致光亮
鍍層厚度均勻,減少高電流密度之過厚沉積
硬鉻電鍍設備要求:
鍍槽:硬聚氯乙烯板或鋼槽內襯軟聚氯乙烯均可,槽邊應有抽風設備;
整流器:要有足夠的容量與鍍槽配套,波紋系數小于5%,電壓不小于15V;
陽極:使用的陽極為鉛錫合金(錫:7%)或鉛銻合金,輔助及象形陽極亦應采用鉛錫或鉛銻合金;
加熱器:選用鈦、鉛或聚四氯乙烯材料;
冷卻管:選用鈦或鉛材料;
過濾泵:過濾泵的材料宜采用不銹鋼或適當的耐鉻酸塑料。
不會浸蝕鉛錫陽極,無需使用特殊陽陰極材料