黃光室是進行IC晶片微影成像術的區域,將光阻材料利用旋鍍法被覆在晶園上,而后再放置于曝光機下進行曝光,以使紫外線光源透過光罩照射于光阻而得到感光圖像,最后再以藥劑進行顯影而得到實際圖像。 早期曝光機的光源為全光譜光源,后演進到G-LINE(436 mm)光源,目前最為廣泛使用的為I-LINE(436mm)光源,對于0.3ūm線寬以下的IC制程,則需采用深紫外線(deep UV)248mm光源,甚至X光或電子束,目前光源較采用高壓水銀(汞)弧燈,由于其特性頻譜,所以須經過濾光片以獲得所需的I-LINE(365mm)光線。 為了避免光阻在曝光前、曝光后受到曝光機以外的光線照射而曝光,所以整個作業必須在黃光室下進行,換言之,所有照明用的光源須加以過濾,照明燈底罩及各式隔間門及窗皆應具有過濾波長380mm紫外光的能力。但必須注意的一點,有些黃色透明板雖然具有黃光,但對于紫外光卻未完全隔絕,嚴格來說,這是不合格的產品。因為常被用于黃光室的5mm 黃色壓克力板,在I-LINE(365mm)附近確有不少的穿透率。