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高純單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶Al，鉻靶Cr，銅靶Cu，鎳靶Ni，硅靶Si，鍺靶Ge，鈮靶Nb，鈦鈀Ti，銦靶In，銀靶Ag，錫靶Sn，石墨靶C，鉭靶Ta，鉬靶Mo，金靶Au，鉿靶Hf，錳靶Mn，鋯靶Zr，鎂靶Mg，鋅靶Zn，鉛靶Pb，銥靶Ir，釔靶Y，鈰靶Ce，鑭靶La，鐿靶Yb，釓靶Gd，鉑靶Pt等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。

高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化鎂靶MgO、氧化釔靶Y2O3，氧化鐵靶Fe2O3，氧化鎳靶Ni2O3，氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鎘靶CdS，硫化鉬靶MoS2，二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化鋯靶ZrO2、五氧化二鈮靶Nb2O5、二氧化鈦靶TiO2，二氧化鉿靶HfO2，二硼化鈦靶TiB2，二硼化鋯靶ZrB2，三氧化鎢靶WO3，三氧化二鋁靶Al2O3，五氧化二鉭靶Ta2O5、氟化鎂靶MgF2、硒化鋅靶ZnSe、氮化鋁靶AlN，氮化硅靶Si3N4，氮化硼靶BN，氮化鈦靶TiN，碳化硅靶SiC，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.