半導體超純水設備水質：出水水質>15MΩ.cm


半導體超純水設備用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
 

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 半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是最常用的元素半導體；除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。


新興的光電材料生產、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

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我們公司專業生產反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，做過各行業的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經驗。鸞江水處理公司產品具備性能好、價格低于國外同類產品價格、供貨及時、售后服務方便快捷等優勢。歡迎咨詢半導體超純水設備、超純水設備。

半導體超純水設備制備工藝：超純水設備,深圳多晶硅超純水設備,硅片超純水設備


  1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統工藝)


  2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(最新工藝)


  3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(最新工藝)


  4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(最新工藝)

 半導體超純水設水質標準：


  半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。

半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領域：   

電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；  超純水設備,多晶硅超純水設備,硅片超純水設備

 

電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水；   

黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；  

生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；   

晶體管生產中純水主要用于清洗硅片；  

集成電路生產中高純水清洗硅片；  

半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；   

半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；

高品質顯像管、螢光粉生產；    

汽車、家電表面拋光處理。