HD半光亮鎳光澤劑 鍍液組成及操作條件 成分及工藝條件 范圍 標準 NiSO4·6H2O (260~320 )g/L 300 g/L NiCl2·6H2O (38~53) g/L 45 g/L H3B03 (38~50) g/L 45 g/L 半光亮柔軟劑 (3~5) ml/L 4 ml/L 半光亮整平劑 (0.4~0.6) ml/L 0.5 ml/L 半光亮潤濕劑 (1~3) ml/L 2 ml/L pH 3.8~4.5 溫度℃ 50~60 Dk 2~6A/dm2 消耗量: 半光亮柔軟劑 80~100ml/KAH 半光亮整平劑 100~150ml/KAH 用途及特性 1. 該工藝是專門為防腐性能要求高的電鍍件而設計,適用于作為多層鎳 系統中的半光亮鎳底層; 2. 不含香豆素,甲醛,鍍液穩定性高,降低廢水處理的成本; 3. 鍍層填平性,柔軟性佳。