曝光機(jī)更廣范圍的紫外光波長選擇，出射光強(qiáng)范圍： 8mW/cm2~40mW/cm2
　　支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式
　　廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)。

　　常見曝光機(jī)舉例：MYCRO美國制造的恩科優(yōu)（N&Q）紫外曝光系統(tǒng)，適用于從特殊大小的基片到4尺寸很寬廣范圍材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系統(tǒng)成功地應(yīng)用于半導(dǎo)體制造，光電電子，平板，射頻微波，衍射光學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)，凹凸或覆晶設(shè)備和其他要求精細(xì)印制和精度對準(zhǔn)的應(yīng)用。

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