E光技術簡介
什么是E光技術
E光技術是光能和射頻能量的完美組合,相互協同作用。核心技術主要有三點:射頻+光能+表皮冷卻系統.利用皮膚對光能的選擇性吸收引起靶組織和正常皮膚的阻抗差異,在光能強度較低的情況下強化靶組織對射頻能量的吸收,極大的消除了光能過強的熱作用可能引起的副反應,并且提高了顧客的舒適度,傳統IPL設備治療深度只達皮下4mm,依靠E光技術,滲透可達皮膚15mm,同時治療范圍大幅度提高.
射頻:利用高頻電磁波---射頻:產生的熱傳導作用,精確直達皮膚深層。利用皮膚的阻抗來產生能量;使細胞分子產生強烈的共振旋轉(800百萬次/秒的數量級)產生熱能,使皮膚底層的溫度瞬間升高,作用深度可達皮膚以下15 mm。
光能:E光是經過納米濾波技術,濾除對人體有害成份的光譜,使用530nm-1200nm的大范圍治療光譜,賦予其一定能量和強度釋放強脈沖光,輸出的光平穩、均衡、持久熱累計時間長。其中短波長用于治療血管性病變和色素性病變,實現美白嫩膚功能。長波段的光主要用于脫毛。
表皮冷卻系統:采用國內最先進的半導體制冷技術,表皮接觸式制冷,有效避免了光能和射頻能量的熱作用對皮膚的損傷,并且增加了表皮的阻抗使治療過程更加安全、舒適。