E光技術簡介
什么是E光技術

E光技術是光能和射頻能量的完美組合，相互協(xié)同作用。核心技術主要有三點：射頻+光能+表皮冷卻系統(tǒng)．利用皮膚對光能的選擇性吸收引起靶組織和正常皮膚的阻抗差異，在光能強度較低的情況下強化靶組織對射頻能量的吸收，極大的消除了光能過強的熱作用可能引起的副反應，并且提高了顧客的舒適度，傳統(tǒng)IPL設備治療深度只達皮下4mm,依靠E光技術，滲透可達皮膚15mm,同時治療范圍大幅度提高．

射頻：利用高頻電磁波---射頻：產生的熱傳導作用，精確直達皮膚深層。利用皮膚的阻抗來產生能量；使細胞分子產生強烈的共振旋轉（800百萬次／秒的數(shù)量級）產生熱能，使皮膚底層的溫度瞬間升高，作用深度可達皮膚以下15 mm。

光能：E光是經過納米濾波技術，濾除對人體有害成份的光譜，使用530nm-1200nm的大范圍治療光譜，賦予其一定能量和強度釋放強脈沖光，輸出的光平穩(wěn)、均衡、持久熱累計時間長。其中短波長用于治療血管性病變和色素性病變，實現(xiàn)美白嫩膚功能。長波段的光主要用于脫毛。

表皮冷卻系統(tǒng)：采用國內最先進的半導體制冷技術，表皮接觸式制冷，有效避免了光能和射頻能量的熱作用對皮膚的損傷，并且增加了表皮的阻抗使治療過程更加安全、舒適。