深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售的靶材應用于存儲領域。在儲存技術方面,高密度、大容量硬盤的發展,需要大量的巨磁阻薄膜材料,CoF ~Cu多層復合膜是如今應用廣泛的巨磁阻薄膜結構。磁光盤需要的 T b F e C o合金靶材還在進一步發展,用它制造的磁光
盤具有存儲容量大,壽命長,可反復無接觸擦寫的特 點。如今開發出來的磁光盤,具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 層復合膜結構, T bF eCo/AI結構的Kerr 旋轉角達到5 8,而T b F e Co f F a 則可以接近0.8。經過研究發現, 低磁導率的靶材高交流局部放電電壓 l 抗電強度。