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深圳市眾誠達應用材料科技有限公司

主營:濺射靶材,真空鍍膜靶材,金屬靶材,合金靶材,陶瓷靶材,
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[供應]真空鍍膜靶材,深圳真空鍍膜靶材圖,眾誠達應用材料公司
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  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:廣東
  • 產(chǎn)品品牌:眾誠達
  • 包裝規(guī)格:
  • 產(chǎn)品數(shù)量:0
  • 計量單位:
  • 產(chǎn)品單價:0
  • 更新日期:2015-03-17 15:18:43
  • 有效期至:2015-09-13
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真空鍍膜靶材,深圳真空鍍膜靶材圖,眾誠達應用材料公司 詳細信息


    深圳市眾誠達應用材料科技有限公司是一家從事靶材研發(fā)、生產(chǎn)與銷售的高新技術企業(yè)。現(xiàn)已擁有陶瓷燒結、等離子噴涂、真空熔煉等核心技術。公司產(chǎn)品主要包括:高密度陶瓷濺射靶材(3N-5N):ITO靶,AZO靶,IGZO靶,氧化鎂靶,氧化釔靶,氧化鐵靶材,,氧化鎳靶,氧化鉻靶,氧化鋅靶,硫化鋅靶,硫化鎘靶材,硫化鉬靶,二氧化硅靶,一氧化硅靶,二氧化鋯靶,五氧化二鈮靶,二氧化鈦靶,二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶,五氧化二鉭靶,氟化鎂靶,硒化鋅靶,氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶材,鈮酸鋰靶,鈦酸鐠靶材,鈦酸鋇靶,鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.備注:CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界最先進的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護熱等靜壓燒結技術,相對密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。


      深圳市眾誠達應用材料科技有限公司主要生產(chǎn)濺射靶材,濺射靶材的制備工藝包括熔煉造法和粉末燒結法。熔煉法在真空中熔煉、鑄造。與粉末法制備的合金相比,熔煉合金靶材的雜質含量(特別是氣體雜質含量)低,且能高密度化、大型化。常用的熔煉方法有真空感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等。對于熔點和密度相差都很大的兩種或兩種以上的金屬,采用普通的熔煉法一般難以獲得成分均勻的合金靶材。常用的粉末冶金工藝包括熱壓、真空熱壓等熱等靜壓等。

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