工藝特點(diǎn)：

      耐磨性好半光亮化學(xué)鎳循環(huán)壽命長，可達(dá)8-10個循環(huán)（Metal Turn Over），[循環(huán)含義為每升鍍液將全部鎳鍍出再補(bǔ)加到開缸時的鎳含量稱為一個循環(huán)，一個循環(huán)最少可沉積鍍層900dm2·μm]；

      最高鍍速可達(dá)20-25μm/h；

      鍍液裝載量大，最多可容15平方分米每升鍍液長期工作而性能穩(wěn)定

      深鍍能力強(qiáng)、均鍍能力強(qiáng)；

      硬度高、耐腐蝕能力強(qiáng)；

      鍍層孔隙率低，15μm無孔隙；

      耐磨性好，優(yōu)于電鍍鉻；

      可焊性好，能夠被焊料所潤濕

      電磁屏蔽性能好，可用于電子元件及計算機(jī)硬盤；

化學(xué)鎳鍍層的性能

      磷含量：6-9%(wt)；電阻率：60-75μΩ·cm；

      密度：7.9g/cm³；  熔點(diǎn)：860-880℃；

      硬度：鍍態(tài):Hv 500-550(45-48RCH)；結(jié)合力：400MPa遠(yuǎn)高于電鍍；熱處理后:Hv1000；

      內(nèi)應(yīng)力：鋼上內(nèi)應(yīng)力低于7MPa

使用方法
本產(chǎn)品采用國際通用的A、B、C三種溶液，以A、B開缸，根據(jù)鎳離子濃度進(jìn)行分析補(bǔ)加工作液的消耗組分，以A、C補(bǔ)加，極其方便：

開缸方法
以配制1升工作液為例
NICHEM 2008A                  6%        60ml/L
NICHEM 2008B                  15%    150ml/L
剩余量為去離子水（電導(dǎo)率低于5μs/cm）和氨水（調(diào)整pH值4.6-4.8）
溫度：85-90℃                            裝載量：0.5-15dm²/L
具體方法為，先計算體積并在槽內(nèi)壁畫出刻度，用去離子水加滿一半體積，再加入6%的A和15%的B，用去離子水加至刻度線下方一點(diǎn)，再用氨水調(diào)節(jié)pH值至刻度線，加溫到88℃即可按工藝要求施鍍。

操作要點(diǎn)

      確保鍍槽在使用前用硝酸(1:1)浸泡，并用水沖洗干凈

      鍍液溫度保持在85-90℃，溫度太低則速度慢，溫度太高則鍍液易分解

      用氨水和硫酸(20%)調(diào)pH值，保持pH值在4.6-4.8間，以確保鍍速，pH值太低則鍍速慢，太高則鍍液易分解，最好用pH計控制。

避免帶入重金屬雜質(zhì)以及表面活性劑