深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產(chǎn)銷售的AZO靶材 磁控濺射廠家，密度、純度以及內(nèi)部組織均勻性等靶材質(zhì)量的重要參數(shù)嚴格管控。大面積鍍膜玻璃，薄膜的主要制備方法是濺射法 雙靶磁控濺射，制備出的薄膜致密度高，附著性好。

ZTO 平面靶參數(shù)

産品名稱ZTO 平面靶

SnO2：5-30wt%

純度> 99.99%

相對密度> 98%

應用領域Thin film Solar、TCO、TFT-LED、OLED

深圳市眾誠達材料應用科技有限公司，AZO靶材質(zhì)量是影響濺射法制備薄膜的關鍵因素之一 ，優(yōu)良的靶材是制備高性能薄膜的首要條件 磁控濺射，透明導電薄膜的質(zhì)量主要體現(xiàn)在其電阻率和可見光區(qū)的透射率。眾誠達靶材濺射靶材主要應用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應用于玻璃鍍膜領域；還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。

AZO平面靶：